X射線(xiàn)衍射XRD工作原理：
分析原理：X射線(xiàn)是原子內(nèi)層電子在高速運(yùn)動(dòng)電子的轟擊下躍遷而產(chǎn)生的光輻射，主要有連續(xù)X射線(xiàn)和特征X射線(xiàn)兩種。晶體可被用作X光的光柵，這些很大數(shù)目的原子或離子/分子所產(chǎn)生的相干散射將會(huì)發(fā)生光的干涉作用，從而影響散射的X射線(xiàn)的強(qiáng)度增強(qiáng)或減弱。由于大量原子散射波的疊加，互相干涉而產(chǎn)生大強(qiáng)度的光束稱(chēng)為X射線(xiàn)的衍射線(xiàn)。

X射線(xiàn)衍射儀技術(shù)（XRD）注意事項(xiàng)：

（1）固體樣品表面＞10×10mm，厚度在5μm以上，表面必須平整，可以用幾塊粘貼一起。

（2）對(duì)于片狀、圓拄狀樣品會(huì)存在嚴(yán)重的擇優(yōu)取向，衍射強(qiáng)度異常，需提供測(cè)試方向。

（3）對(duì)于測(cè)量金屬樣品的微觀(guān)應(yīng)力（晶格畸變），測(cè)量殘余奧氏體，要求制備成金相樣品，并進(jìn)行普通拋光或電解拋光，消除表面應(yīng)變層。

（4）粉末樣品要求磨成320目的粒度，直徑約40微米，重量大于5g。